装置紹介 

English

真空チャンバー

In situ PLD-レーザー顕微鏡複合装置

一枚の基板上に組成や構造の異なる薄膜を一括合成することが可能。また、作製した試料表面をin situでレーザー顕微鏡観察が可能。

高温PLD装置
従来よりも高温・高圧環境での成膜が可能。
In situ PLD-STM複合装置
製膜後の薄膜表面の構造をその場STM観察。高分解能STMを搭載。
In situ 電気化学-PLD装置

PLD堆積チャンバーにて成膜された薄膜サンプルを電気化学チャンバー(真空〜雰囲気制御)へ大気暴露すること無くトランスファーして、電気化学的な評価が可能。

小型有機蒸着装置

リボルバー式サンプルホルダで6サンプルを同時にセット可能。CW-IRレーザを基板加熱及び蒸着に使用している。熱電対で直接サンプル温度を測定。

ダブルビーム有機蒸着装置

両側から2つのレーザーを導入して共蒸着が可能。サンプル直接観察のための高倍率顕微鏡も設置。結晶成長過程等のin situ観察も可能。

ガルバノ走査型高速PLD装置

ガルバノミラーにより2つのターゲットへのパルスレーザー撃ち分けが可能。パルス数を経時変化させるプログラムにより基板垂直方向での組成傾斜膜が作成可能。

評価装置

XRD
X線回折装置。薄膜の結晶構造分析に使用。
共焦点レーザー顕微鏡
鮮明な3次元画像の撮影が可能。高温観察にも使用。
AFM
原子間力顕微鏡。薄膜表面モフォロジー観察に使用。
DIC
微分干渉顕微鏡。試料表面の微細な凹凸を高いコントラスト比で観察可能。
膜厚計
触針式の膜厚測定装置。
FT-IR
赤外線を使って分子・固体内の化学結合の振動吸収を調べる。主に有機分子の構造評価に使用。
XRF
蛍光X線装置。顕微仕様で、薄膜組成の定性・定量評価や高速マッピングが可能。

その他

ガスフロー管状炉
基板処理に用いる加熱装置。雰囲気制御も可能。
プラズマクリーナー
基板の前処理に使用。
スピンコーター
塗布法の成膜に使用。有機薄膜太陽電池の検討に主に利用。
純水製造装置
基板洗浄、電気化学測定等に使用。

Designed by CSS.Design Sample